2009年晶圆级封装趋势

时间:2009-03-18来源:慧聪网

  其他挑战

  最近一个新的挑战给ASE制造了意想不到的困难。当用户增加芯片的复杂度和密度时,更多的功能部分被封装进芯片中,且大都使用再分布的方法。“与密度增加同时发生的是,一些引线键合焊盘或硅芯片上的焊盘降低到UBM结构之下。因为那里没有了衬垫效应,而是一个高应力集中区域,因此会降低可靠性。增加密度时焊盘下的通孔会导致这个问题。我们正试图优化设计——不但在在硅芯片级别上,而且在再分布系统结构上,来调节落到高密度器件焊垫下方的通孔。”

  大电流也可能在将来带来一些挑战。Hunt表示,有些ASE的终端用户希望得到比传统上ASE为便携式设备提供的大得多的电流。“我们将不得不增加RDL的厚度和UBM结构的性能以及选择具有最好电迁移性能的合金,”Hunt说“嵌入式闪存和扇出技术中我们需要低温聚合物。对于扇出技术,当晶圆被埋入塑料框架,塑料框架必须有与硅相似的较低的热膨胀系数(TCE),现今的材料有低的固化温度适合做塑料框架。如果你试图将高固化温度的聚酰亚胺PBO放到RDL上,它会使辅助晶圆弯曲而无法处理。对于这种情形,我们也需要低固化温度的材料。这种材料是存在的,只是可靠性却不如高固化温度材料。”

  可靠性是另一个需要被关注的问题。虽然它一直是一个问题,但过去人们却最关心温度循环。“每个人都从标准封装技术推断,并且将标准封装技术的规则应用于晶圆级封装,但是很明显,相对于温度循环性能,手持设备终端用户对跌落测试性能更感兴趣,”Hunt说。“现在我们也看到对于有键盘的设备需要增加弯曲测试,按压时它会使电路弯曲在其中产生应力。弯曲测试和跌落测试是主要因素,但我们不能排除温度循环测试,而且我们必须使这些高密度、高I/O的产品通过所有这些测试。”

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关键词: ASE 晶圆级封装 TSV

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