电子产品世界

14日讯，《科创板日报》记者从ASML获悉，其公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米，并计划于2021年的中期开始发货。

关键词： ASML EUV 光刻机

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